INNE EBOOKI AUTORA
-25%
Autor:
Format:
pdf, ibuk
Okres ostatnich pięćdziesięciu lat zaznaczył się burzliwym rozwojem badań nad otrzymywaniem, właściwościami i zastosowaniem naniomateriałów. Terminem tym określamy materiały o grubościach wynoszących od kilkunastu do kilkuset nanometrów, które tworzą struktury pośrednie między strukturą atomową a materiałami litymi. Właściwości fizykochemiczne nanomateriałów, które są odmienne zarówno dla warstw atomowych, jak i materiałów litych, przyczyniły się do ich szerokiego zastosowania w mikroelektronice, optyce, optoelektronice jako nanostrukturalnych powłok ochronnych czy też nowoczesnych materiałów wysokoenergetycznych. Odrębnym zagadnieniem są badania aktywności katalitycznej cienkich1 warstw metalicznych i niemetalicznych oraz ich wykorzystanie w procesach katalitycznych lub foto-katalitycznych.
Nanomateriały mogą być wytwarzane różnymi metodami, w których istotną rolę odgrywają zarówno procesy fizyczne, jak i chemiczne. Przykładami są: chemiczne trawienie kryształów, rozpylanie katodowe, naparowywanie próżniowe, rozpylanie gazotermiczne, techniki sedymentacyjne, elektrochemiczne, metoda zol-żel, chemiczne osadzanie z roztworów (MOD) czy też chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD). Na szczególną uwagę zasługują techniki CVD, które można zdefiniować jako procesy otrzymywania warstw stałych w wyniku reakcji chemicznych, jakim ulegają związki chemiczne transportowane w fazie gazowej na powierzchni podłoża.
Rok wydania | 2009 |
---|---|
Liczba stron | 190 |
Kategoria | Chemia ogólna |
Wydawca | Wydawnictwo Naukowe Uniwersytetu Mikołaja Kopernika |
ISBN-13 | 978-83-231-2360-6 |
Numer wydania | 1 |
Język publikacji | polski |
Informacja o sprzedawcy | ePWN sp. z o.o. |
INNE EBOOKI AUTORA
EBOOKI WYDAWCY
POLECAMY
Ciekawe propozycje
Spis treści
Wykaz symboli i skrótów /7 | |
Skróty nazw związków chemicznych /7 | |
Symbole i skróty metod i wielkości fizycznych /9 | |
Wstęp /11 | |
1. Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) /13 | |
1.1. Charakterystyka metody CVD /13 | |
1.2. Związki chemiczne stosowane jako prekursory CVD /18 | |
1.2.1. Podział i charakterystyka prekursorów /20 | |
1.2.2. Prekursory srebra stosowane w technikach CVD /26 | |
1.2.3. Prekursory nanowarstw ditlenku tytanu(IV) /28 | |
1.2.4. Związki koordynacyjne Ag(I) i Ti(IV) z Ugandami karboksylanowymi jako nowa grupa prekursorów CVD metalicznego srebra i ditlenku tytanu /30 | |
1.2.4.1. Otrzymywanie, charakterystyka strukturalna i właściwości termiczne karboksylanów srebra(I) oraz ich kompleksów z trzeciorzędowymi fosfanami /31 | |
1.2.4.2. μ-oxo alkoholano karboksylanowe kompleksy tytanu(IY) /38 | |
2. Cel prowadzonych badań /38 | |
3. Metodyka badań związków chemicznych stosowanych jako prekursory CVD /51 | |
3.1. Metody analityczne stosowane do badania prekursorów CVD /51 | |
3.2. Zastosowanie spektroskopii IR do oceny przydatności związków chemicznych w procesach CVD/53 | |
3.3. Aparatura i metody badawcze stosowane w eksperymentach CVD /57 | |
4. Spektroskopowe badania mechanizmów termicznego rozkładu karboksylanów srebra(I) oraz ich kompleksów z trzeciorzędowymi fosfanami /60 | |
4.1. Badania właściwości termicznych karboksylanów srebra(I) /61 | |
4.2. Badania właściwości termicznych kompleksów srebra(I) z karboksylanami i trzeciorzędowymi fosfanami /76 | |
5. Badania spektroskopowe termicznych właściwości μ-oxo alkoholano karboksylanów tytanu(IV) /92 | |
5.1.Przebieg termicznego rozkładu kompleksów /93 | |
5.2.Badania termicznych właściwości wielordzeniowych /i-oxo kompleksów tytanu(IV) tworzących inne rodzaje struktur /111 | |
6. Spektroskopowe kryteria wyboru prekursorów CVD /121 | |
7. Związki koordynacyjne Ag(I) i Ti(IV) z Ugandami karboksylan owymi jako prekursory CVD /129 | |
7. 1. Karboksylany srebra(I) oraz ich kompleksy z trialkilofosfa-nami jako prekursory CVD cienkich warstw metalicznego srebra /130 | |
7.1.1.Karboksylany Ag(I) jako prekursory CVD /130 | |
7.1.2. Zastosowanie kompleksów [Ag(OOCR')(PR3)j jako prekursorów CVD /136 | |
7.2. Zastosowanie kompleksów typu [TinOn(OR)n(OOCR')n] (n = 4, 6) jako prekursorów CVD cienkich warstw TiO2 /148 | |
7.3. Otrzymywanie cienkich warstw ditlenku tytanu domieszkowanych metalicznym srebrem lub miedzią /158 | |
Podsumowanie i wnioski /168 | |
Bibliografia /172 | |
Summary /184 | |